NF EN 62047-16
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16 : test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods
| Fecha edición: |
2015-11-14
En Vigor
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|---|---|
| Idiomas disponibles: | Inglés, Francés |
| Keywords: | SEMICONDUCTOR DEVICES|MICROELECTRONICS|MATERIALS|FILMS|THICKNESS|TESTS|MECHANICAL STRENGTH|MEASUREMENT|STRESSES|CURVATURE |
| ICS: | 31.080.99 - Otros dispositivos semiconductores |
| CTN: | |
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Equivalencia Internacional |
Idéntica EN 62047-16:2015 Idéntica IEC 62047-16:2015 |
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