ISO 17109:2022
Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
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2022-03-01
En Vigor
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|---|---|
| Idiomas disponibles: | Inglés |
| ICS: | 71.040.40 - Análisis químico |
| CTN: | 54646 |
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Anulaciones Normas |
Anula a ISO 17109:2015 |
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Otras Relaciones |
Fusionada en ISO 17109:2015/DAmd 1 |
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