ISO 19383:2026
Atomic layer deposition — Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors
| Fecha edición: |
2026-06-01
En Vigor
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|---|---|
| Resumen: | This document defines the chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity and anion content specification. |
| ICS: | 25.220.01 - Tratamiento y recubrimiento de superficies en general |
| CTN: | ISO/TC 107 - 51358 |
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