ISO/PRF 25164
Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification
| Fecha edición: |
2026-06-02
En Vigor
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|---|---|
| Idiomas disponibles: | Inglés |
| Resumen: | This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering. |
| ICS: | 25.220.40 - Recubrimientos metálicos |
| CTN: | ISO/TC 107/SC 9 - 6620163 |
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