UNE-EN 62047-14:2012
Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de los materiales de película metálica. (Ratificada por AENOR en junio de 2012.)
| Fecha edición: |
2012-06-01
En Vigor
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| Fecha de ratificación: | 2012-06-01 |
| Idiomas disponibles: | Inglés |
| ICS: | 31.080.99 - Otros dispositivos semiconductores |
| CTN: | CTN 209/SC 47 - Dispositivos de semiconductores |
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Equivalencia Internacional |
Idéntica IEC 62047-14:2012 Idéntica EN 62047-14:2012 |
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