UNE-EN 62047-25:2016
Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 25: Tecnología de fabricación de MEMS basados en silicio. Método de medida de la resistencia al cizallamiento y al desprendimiento del área de micro unión. (Ratificada por la Asociación Española de Normalización en enero de 2017.)
| Fecha edición: |
2017-01-01
En Vigor
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| Fecha de ratificación: | 2017-01-01 |
| Idiomas disponibles: | Inglés |
| ICS: | 31.080.99 - Otros dispositivos semiconductores |
| CTN: | CTN 209/SC 47 - Dispositivos de semiconductores |
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Equivalencia Internacional |
Idéntica IEC 62047-25:2016 Idéntica EN 62047-25:2016 |










